Water-rich conditions during titania atomic layer deposition in the 100 °C-300 °C temperature window produce films with TiIV oxidation state but large H and O content variations - La Plateforme SAFIR : Système d’Analyse par Faisceaux d’Ions Rapides
Article Dans Une Revue Applied Surface Science Année : 2022

Water-rich conditions during titania atomic layer deposition in the 100 °C-300 °C temperature window produce films with TiIV oxidation state but large H and O content variations

Domaines

Autre
Fichier principal
Vignette du fichier
PaperTiO2_150722_unmarked_HAL.pdf (1.98 Mo) Télécharger le fichier
SupMat_XPS_TiO2_150722.pdf (507.86 Ko) Télécharger le fichier
Origine Fichiers produits par l'(les) auteur(s)

François Rochet  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.sorbonne-universite.fr/hal-03907172

Soumis le : mercredi 1 février 2023-11:23:41

Dernière modification le : jeudi 31 octobre 2024-03:24:54

Archivage à long terme le : mardi 2 mai 2023-19:01:32

Télécharger pour visualiser

Dates et versions

hal-03907172 , version 1 (01-02-2023)

Identifiants

Citer

Bingbing Xia, Jean-Jacques Ganem, Ian Vickridge, Emrick Briand, Sébastien Steydli, et al.. Water-rich conditions during titania atomic layer deposition in the 100 °C-300 °C temperature window produce films with TiIV oxidation state but large H and O content variations. Applied Surface Science, 2022, 601, pp.154233. ⟨10.1016/j.apsusc.2022.154233⟩. ⟨hal-03907172⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

CNRS INSP ALLINSP LCPMR INSP-E5 INSP-E10 INC-CNRS SORBONNE-UNIVERSITE SU-SCIENCES CHIMIE-SU SAFIR
133 Consultations
135 Téléchargements

Altmetric

Partager

More